電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)是20世紀(jì)80年代早期發(fā)展起來(lái)的商品化的分析技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)已經(jīng)應(yīng)用于幾乎所有分析領(lǐng)域內(nèi)痕量、微量和常量元素的測(cè)定。該技術(shù)的優(yōu)勢(shì)包括:

元素覆蓋范圍寬：包括堿金屬、堿土金屬、過(guò)渡金屬和其它金屬類金屬、稀土元素、大部分鹵素和一些非金屬元素；

性能好：靈敏度高，背景信號(hào)低，檢出限極低；

分析速度快：由于四極桿分析器的掃描速度快，每個(gè)樣品全元素測(cè)定只需大約4分鐘；

線性范圍寬：一次測(cè)量線性范圍能覆蓋9個(gè)數(shù)量級(jí)；

能夠提供同位素的信息。

ICP-MS由于在速度、靈敏度、動(dòng)態(tài)范圍和元素測(cè)量范圍中的優(yōu)勢(shì)而處于獨(dú)一無(wú)二的地位。能夠快速測(cè)量高濃度的元素(ppb到ppm級(jí))的特點(diǎn)使其成為AES的可行的替代方法。

同時(shí)ICP-MS在許多痕量和超痕量元素測(cè)定中超越了石墨爐原子吸收光譜法(GFAAS)的檢出能力(ppt級(jí))，ICP-MS能測(cè)量幾乎所有的樣品,并且實(shí)現(xiàn)了一次采集完成多元素同時(shí)測(cè)定，同時(shí)提供同位素的信息。

形態(tài)分析是ICP-MS發(fā)展最快的領(lǐng)域之一，即色譜技術(shù)與ICP-MS的聯(lián)用。其中ICP-MS作為檢測(cè)器測(cè)定樣品中元素的化學(xué)價(jià)態(tài)。這些性能有助于實(shí)現(xiàn)ICP-MS在所有領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用，而且確立了ICP-MS在痕量金屬檢測(cè)技術(shù)中的首*要地位。

表 各種原子分析技術(shù)比較：                                                                       

質(zhì)譜圖常見(jiàn)干擾

1、光譜干擾
（1）同量異位離子干擾
來(lái)源：兩種不同元素的質(zhì)量幾乎相同的同位素所造成的干擾。
    如：¹³³In⁺——¹³³Cd^{+
        115}In⁺——¹¹⁵Sn^{+
          40}Ar⁺——⁴⁰Ca⁺
消除：另選測(cè)定同位素、采用高分辨質(zhì)譜儀、計(jì)算機(jī)軟件校正。

（2）多原子分子離子干擾
來(lái)源：在離子的引出過(guò)程中，由等離子體中的組分與基體或大氣中的組分相互作用形成的多原子離子所引起的干擾。
    如：¹⁴N₂⁺——²⁸Si^{+
        14}N¹⁶O¹H⁺——³¹P⁺
消除：扣空白校正、反應(yīng)/碰撞池技術(shù)、另選分析同位素。

（3）氧化物和氫氧化物離子干擾
來(lái)源：